顆粒圖像分析儀相關特點參數

◆主要性能(neng)：光學顯(xian)微鏡放大(da)成像(xiang)，專業級攝像(xiang)頭，高(gao)(gao)速(su)高(gao)(gao)分(fen)(fen)辨率圖(tu)像(xiang)采(cai)集(ji)卡(ka)，圖(tu)像(xiang)動態(tai)快速(su)顯(xian)示于電腦，直接觀察(cha)粉體顆粒(li)(li)的形貌，軟件進行粒(li)(li)度分(fen)(fen)析。全平場消(xiao)色(se)差物鏡，zui大(da)分(fen)(fen)辨率0.07微米，zui大(da)光學放大(da)倍數1600倍，圖(tu)像(xiang)顯(xian)示和打印zui大(da)倍數4000倍(A4幅面)。

◆測量(liang)范圍：0.5μm～2000μm

◆分析(xi)軟件(jian)：提供等(deng)面(mian)積和(he)等(deng)周長兩種(zhong)基準下的(de)個數、直(zhi)徑(jing)(jing)、面(mian)積、體(ti)積等(deng)分布數據。同時(shi)提供D10、D50、D90、平均(jun)粒徑(jing)(jing)、表面(mian)積、長徑(jing)(jing)比等(deng)數據，配有(30)多種(zhong)圖(tu)像(xiang)分析(xi)和(he)處(chu)理功(gong)能，可以(yi)滿足(zu)各種(zhong)圖(tu)像(xiang)處(chu)理需要。

◆測量(liang)結果：顆粒形貌可(ke)存盤打印，還(huan)可(ke)輸出多種格式(shi)的測試報告。另可(ke)根據行業特(te)殊(shu)要求，設計磨料、硅(gui)灰(hui)石等軟件(jian)。

◆測量方法：透(tou)射：將樣(yang)品置于載玻片上(shang)，運行(xing)軟件，由電腦(nao)分析處理，計算數(shu)據。

           反射(she)：將樣品置于物(wu)鏡下方，運行軟件，由電腦分析處(chu)理，計算數據(ju)。

◆圖(tu)像(xiang)(xiang)采(cai)集(ji)：可調整(zheng)圖(tu)像(xiang)(xiang)高度、寬度、分辨率等。

◆圖像分(fen)析處理：

  1.色調(diao)(diao)(diao)處理：負(fu)像、灰度(du)(du)化、色調(diao)(diao)(diao)調(diao)(diao)(diao)整、亮(liang)度(du)(du)、對比度(du)(du)調(diao)(diao)(diao)整；

  2.圖像(xiang)矯正(zheng)：水平鏡(jing)像(xiang)、垂直鏡(jing)像(xiang)、90度(du)（逆時(shi)(shi)針(zhen))、90度(du)(順時(shi)(shi)針(zhen)) 、旋轉、放(fang)大、縮小、任意比例縮放(fang)等；

  3.測量單位(wei)：微米、毫米、厘米、英吋任選(xuan)；

  4.圖像增強：對(dui)比度均衡、膨(peng)脹、腐蝕等；

  5.圖像(xiang)處理：圖像(xiang)銳化(hua)，邊(bian)緣(yuan)平滑，二值(zhi)化(hua)，邊(bian)界濾波，分(fen)析(xi)目標(biao)擦(ca)除、孔洞填充，手工擦(ca)除，手工連(lian)接，粒子(zi)屬性(xing)查看、設置標(biao)尺、網格等(deng)功能；

  6.分析(xi)參(can)數：

 （1）幾何參數：每個(ge)顆(ke)粒的質心 X、Y 坐(zuo)標位置，像素；

 ;（2）當量幾何參數：等面積圓(yuan)直(zhi)徑(jing)(jing)，等周長圓(yuan)直(zhi)徑(jing)(jing)，長徑(jing)(jing)，短(duan)徑(jing)(jing)，長徑(jing)(jing)比(bi)；

 （3）外(wai)接幾何參數：每(mei)個顆粒的外(wai)接圓直(zhi)徑(jing)；

 （4）光密(mi)度參數：圖像 R、G、B、灰度分布；

 （5）形態學參(can)數：長徑比，圓(yuan)度系數； 

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